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概述
TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質內部微觀結構的一種大型分析儀器,主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參數、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質的結構和單晶位錯等。
TDF系列X射線晶體分析儀特點
采用立式管套,四個窗口可以同時使用。
采用進口PLC控制技術,控制精度高、抗干擾性好,可實現本系統可靠地工作,PLC控制高壓的開關、升降、具有自動訓練X光管的功能,有效的延長X射線管及儀器的使用壽命。
高壓發生器(采用進口PLC控制)
管電壓:10-60KV;
管電流:2-60mA;
管電壓、管電流穩定度≤±0.005%;
額定輸出功率:3KW。
高壓電纜
介電電壓≥100KV;
長度:2M。
X射線管
額定功率:2.4KW;
焦點尺寸(mm2):點焦點(1×1)線焦點(1×10);
靶材:Cu、Co、Fe、Cr、Mo、W等。
X射線照相機
勞厄相機(大小粉末)
平板相機
三維樣品臺
美國Multiwire相機
X射線防護罩
采用高密度、高透光性道德鉛玻璃作為X射線防護罩,外射線量不大于0.1µ Sv/h
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